单项选择题

在半导体生产中,常常采用的二氧化方式是干-湿-干氧化,湿氧氧化的作用是

A、得到较好的表面特性
B、较短的时间得到较厚的薄膜
C、较好的硅/二氧化硅界面特性
D、提高氧化膜的质量