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单项选择题

集成电路的英文简称为（）

A、LCC
B、IC
C、MCU
D、MC

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单项选择题

金属钨的CVD方法中要用到的气体源是（）。

A.SiH₄
B.WF₆
C.金属钨
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金属有机化合物化学气相沉淀的缩写为（）。

A、LPCVD
B、MOCVD
C、ICPCVD
D、APCVD

多项选择题

中国三大白肋烟生产基地是（）。

A、湖北恩施
B、四川达州
C、重庆万州
D、云南宾川

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