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全部科目 > 通信电子计算机技能考试 > 集成电路制造工艺员 > 集成电路制造工艺员（三级）

单项选择题

环境温度的变化可影响硅片的涂胶均匀性，通常将环境温度设定于（）。

A.20℃
B.23℃
C.25℃
D.28℃

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光刻胶对人部分可见光敏感，但对（）光不敏感。

A.黄
B.红
C.紫
D.蓝
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A.416nm
B.405nm
C.365nm
D.740nm
单项选择题
坚膜烘焙在加热平板上进行，温度控制在（）。

A.100℃～150℃
B.130℃～200℃
C.110～130℃
D.85～120℃
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