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WCVD工艺第一步是（）。
A.浸润
B.成核
C.BULK
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Liner barrier阻挡金属间扩散作用的金属是（）。
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单项选择题
掺氯氧化使用的HCL是（）。
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B.固态源
C.气态源
单项选择题
二氧化硅中每个硅原子周围有（）个氧原子。
A.1
B.2
C.3
D.4
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