欢迎来到牛牛题库网 牛牛题库官网
logo
搜索
全部科目 > 大学试题 > 理学 > 物理学 > 薄膜物理与技术

单项选择题

蒸发台以下哪项参数对膜厚影响最大（）

A.行星架转速
B.加热温度
C.熔源时间
D.tooling值

点击查看答案&解析
上一题 目录 下一题

相关考题

单项选择题
P5000设备气态源制备SIN工艺中参与反应的气体是（）

A.SiH4、O2
B.SiH4、NH3
C.SiH4、N2O
D.SiH4、N2
单项选择题
溅射台使用的AlSi靶材中，Si的含量是（）

A.0.5%
B.1%
C.0.05%
D.0.1%
单项选择题
P5000机台属于哪种类型的CVD工艺（）

A.APCVD
B.LPCVD
C.PCVD
D.PECVD
微信小程序免费搜题

All Rights Reserved 版权所有©牛牛题库网(nntiku.com)

备案号：湘ICP备2022003000号-1

微信扫一扫,加关注免费搜题

微信扫一扫,加关注免费搜题