欢迎来到牛牛题库网
牛牛题库官网
登录
注册
首页
经济师考试
会计职称考试
统计师考试
审计师考试
保险考试
全部科目
>
大学试题
>
理学
>
物理学
>
真空技术
搜题找答案
问答题
简答题
磁控溅射典型的工艺参数？
【参考答案】
工作压力0.5Pa，靶电压300-600V，靶电流密度20mA/cm
2
，沉积速率2μm/min。
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
问答题
什么是离子束溅射？
问答题
为什么射频溅射可以溅射非导电靶材？
问答题
什么是二极溅射？其工艺参数如何？
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题
