Si-SiO₂界面电荷有哪几种？简述其来源及处理办法。

【参考答案】

可动离子电荷Q_m来源：主要来源于Na+等网络改变者。解决办法：为了降低Na+的玷污，可以在工艺过程......

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问答题

一片硅片由0.3um厚的SiO₂薄膜覆盖。所需数据见下表，玻尔兹曼常数k=1.38×10^-23。（1）在1200℃下，采用H₂O氧化，使厚度增加0.5um需要多少时间？。（2）在1200℃下，采用干氧氧化，增加同样的厚度需要多少时间？

问答题

问答题

Si-SiO2界面电荷有哪几种？简述其来源及处理办法。