关于基模高斯光束，说法不正确的是：（）。

A.激光横模指腔内振荡激光在横向上的特征场分布。
B.一般情况下，从激光器发射出来的激光束的横向场分布与腔内振荡横模的横向场分布基本相同。
C.高阶横模的横向场分布总是有多个光斑，如TEM01厄米高斯模式有两个光斑。
D.基横模一般指高斯模式，其横向场分布可由高斯函数来计算。

A.实际激光器振荡激光，其纵模序数一般很大。
B.相邻纵模的频率间隔可由真空光速c除以往返光程来计算。
C.增大谐振腔的腔长，纵模频率间隔会变小。
D.略微增加腔长，某个纵模的特征频率会也会增加。

A.纵模的形成可以看成腔内振荡激光自干涉的结果。
B.纵模的场分布图像是驻波，所以从激光器发射的激光束的纵向场分布也呈现驻波结构。
C.纵模指谐振腔内振荡激光在纵向，也就是传播方向上的场分布特征。
D.实际激光器内振荡的纵模数目可能为一个、几个、几百个或更多。