单项选择题
A、高压 B、低压 C、常压 D、真空
A、脱硅机 B、过滤机 C、沉降槽 D、缓冲槽
溶解于铝酸钠溶液中的SiO2是以（）形式存在的。
A、原硅酸钙 B、硅酸钠 C、含水铝硅酸钠 D、含水铝硅酸钙
A、溶液中添加适当的CaO B、脱硅温度为100—105℃ C、脱硅过程中发生化学反应 D、钙硅渣溶解度小于钠硅渣的溶解度
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