欢迎来到牛牛题库网 牛牛题库官网
logo
搜索
全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 集成电路技术 > 集成电路技术综合练习

单项选择题

（）工艺就是往晶圆片中注入离子，生成相应的P、N类半导体的工艺。

A.氧化
B.掺杂
C.光刻
D.蚀刻

点击查看答案&解析
上一题 目录 下一题

相关考题

单项选择题
集成电路制造过程中，把版图转移到晶圆的过程叫（）。

A.设计规则
B.封装
C.光刻
D.测试
单项选择题
通常讲的28nm工艺，是指（）。

A.wafer的直径
B.管芯的大小
C.晶体管的面积
D.晶体管沟道长度
单项选择题
下列电路实现形式中，哪一种是无比逻辑？（）

A.NMOS
B.CMOS
C.TTL
D.ECL
微信小程序免费搜题

All Rights Reserved 版权所有©牛牛题库网(nntiku.com)

备案号：湘ICP备2022003000号-1

微信扫一扫,加关注免费搜题

微信扫一扫,加关注免费搜题