单项选择题
A.离子注入 B.刻蚀 C.扩散 D.光刻
A.酸碱性气体 B.有机性气体 C.特殊毒性气体 D.水蒸汽 E.中性气体
A.一般排气系统 B.特殊排气系统 C.制程排气系统 D.专用排气系统 E.排气排水系统
A.金属电迁移 B.金属尖刺现象 C.芯片产生超过1A的峰值电流 D.栅氧化层击穿 E.吸引带电颗粒或极化并吸引中性颗粒到硅片表面
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