欢迎来到牛牛题库网 牛牛题库官网
logo
全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 集成电路版图

判断题

当掩模版上的图形转移到下方薄膜材料上时,必须要考虑到光刻胶的性质(正胶还是负胶)。

【参考答案】

错误

(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)

点击查看答案&解析
微信小程序免费搜题
微信扫一扫,加企业群免费搜题

微信扫一扫,加企业群免费搜题