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多项选择题

以下选项中关于MOCVD的特点描述正确的选项有()

A、非常适合于生长各种异质结构材料
B、外延层大面积均匀性良好,可以进行大规模生产
C、可以生长超薄外延层,并能获得很陡的界面过渡
D、生长易于控制,可以生长纯度很高的材料
E、适用范围广泛,几乎可以生长所有化合物及合金半导体

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