问答题
简答题
一般介电层ILD的形成由那些层次组成?
【参考答案】
① SiON层沉积(用来避免上层B,P渗入器件);
② BPSG(掺有硼、磷的硅玻璃)层沉......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
点击查看答案
相关考题
