欢迎来到牛牛题库网 牛牛题库官网
logo
搜索
全部科目 > 大学试题答案(课后习题答案)

单项选择题

光刻技术的主要步骤包括()

A、抗蚀剂的涂布
B、对准曝光
C、显影
D、其它选项都正确

点击查看答案&解析
上一题 目录 下一题

相关考题

单项选择题
正胶光刻，如窗口（SPACE）线宽偏大，这时可采取的办法是（）。

A.加曝光时间
B.减曝光时间
C.没办法
D.只要改变曝光时间即可
单项选择题
光掩模（Mask）制作包括哪些步骤（）。

A、模版设计
B、曝光
C、显影和刻蚀
D、以上全是
判断题
葡萄是浅根性果树，其吸收根多分布于地表20厘米范围内。（）
微信小程序免费搜题

All Rights Reserved 版权所有©牛牛题库网(nntiku.com)

备案号：湘ICP备2022003000号-1

微信扫一扫,加关注免费搜题

微信扫一扫,加关注免费搜题