单项选择题
A.结构简单B.镀膜速率慢C.基片温度低、损伤小D.靶材利用率高
A.旋覆法B.喷涂法C.浸渍提拉法D.刷涂法
A.化学气相沉积B.离子束辅助沉积C.多弧离子镀D.分子束外延
A.直接三级溅射B.磁控溅射C.射频溅射D.直流二级溅射
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