欢迎来到牛牛题库网
牛牛题库官网
登录
注册
首页
经济师考试
会计职称考试
统计师考试
审计师考试
保险考试
全部科目
>
大学试题
>
工学
>
电子与通信技术
>
微电子学
搜题找答案
问答题
简答题
离子注入后的RTA流程
【参考答案】
1、晶圆进入
2、温度急升
3、温度趋稳
4、退火
5、晶圆冷却
6、晶圆退出
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
问答题
氮化硅在IC芯片上的用途
问答题
影响扩散工艺中杂质分布的因素
问答题
简述栅氧化层生长的典型干法氧化工艺流程
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题