单项选择题
A.技术瓶颈B.高昂的研发成本C.市场竞争激烈D.缺乏政府支持
A.设备占地面积B.设备外观美观度C.设备操作便捷性D.设备的品牌知名度
A.干法刻蚀B.湿法刻蚀C.两者差不多D.取决于具体工艺
A.半导体行业发展B.政策法规C.技术创新D.以上都是
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