单项选择题
A.氮化硅 B.二氧化硅 C.光刻胶 D.多晶硅
A.栅氧化层 B.沟槽 C.势垒 D.场氧化层
A.单晶硅刻蚀 B.多晶硅刻蚀 C.二氧化硅刻蚀 D.氮化硅刻蚀
A.气体 B.等离子体 C.固体 D.液体
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