单项选择题
半导体三极管工作过程中()。
A.发射区杂质浓度大于基区杂质浓度;
B.发射区杂质浓度小于基区杂质浓度;
C.发射区杂质浓度等于基区杂质浓度;
D.发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。
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单项选择题
A.发射区杂质浓度大于基区杂质浓度;
B.发射区杂质浓度小于基区杂质浓度;
C.发射区杂质浓度等于基区杂质浓度;
D.发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。
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