未知题型
光刻工艺流程：打底膜→ →前烘 →曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶。
【参考答案】
光刻工艺流程是半导体制造中非常关键的一个步骤，它用于在硅片上形成微小的电路图案。整个流程如下：1. 打底膜（Spin C......
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