单项选择题
硅恒定源扩散，在扩散温度硅的固溶度为Ns，在进行了40min扩散后，测得结深是1.5μm，若要获得2.0μm的结深，在原工艺基础上应再扩散多少分钟？硅表面杂质浓度是多少？
A、应再扩散71minB、表面杂质浓度等于该工艺温度时硅的固溶度；
C、应再扩散31 min
D、杂质表面浓度=Ns
E、杂质表面浓度 <ns>
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