单项选择题
在半导体生产中，常常采用的二氧化方式是干-湿-干氧化，湿氧氧化的作用是
A、得到较好的表面特性B、较短的时间得到较厚的薄膜
C、较好的硅/二氧化硅界面特性
D、提高氧化膜的质量
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