以下说法正确吗。Q4：MacEtch技术在刻蚀Si和GaN 的纳米结构的应用上， 能达到的最小的横向分辨率分别是多少？A4：我们可以用光刻（optical lithography），电子束光刻（EBL，e-beam lithography）甚至可以用扫描透射电子显微术（STEM， scanning transmission electron microscope）来沉积单个原子或者原子线图形，我们也在探索，我们最小能做到什么尺寸。当前的话，最小的结构是利用EBL沉积金属图案获得的5 nm的纳米结构。（ ）