问答题
光刻胶是一种有机化合物，它受紫外线曝光后在显影液中的溶解度发生显著变化，而未曝光的部分在显影液中几乎不溶解。光......
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简述光刻工艺的8个基本步骤。
问答题简述光刻工艺的8个基本步骤。
简述部分离子注入工艺的作用。
问答题简述部分离子注入工艺的作用。
简述在先进的CMOS工艺中，离子注入的应用。
问答题简述在先进的CMOS工艺中，离子注入的应用。
