填空题
化学侵蚀;中和
常用的溅射镀膜方法有()溅射、()溅射和()溅射,其中()溅射只能沉积金属膜,()溅射能够沉积介质膜。
填空题常用的溅射镀膜方法有()溅射、()溅射和()溅射,其中()溅射只能沉积金属膜,()溅射能够沉积介质膜。
为了获得所设计成分的合金或化合物薄膜,可以采用()和()蒸发法。
填空题为了获得所设计成分的合金或化合物薄膜,可以采用()和()蒸发法。
蒸发镀膜高真空度的目的主要为:金属或非金属材料的()温度下降,可以减少蒸汽原子和()原子的()
填空题蒸发镀膜高真空度的目的主要为:金属或非金属材料的()温度下降,可以减少蒸汽原子和()原子的()