问答题
浅槽隔离是在衬底上通过刻蚀槽、氧化物填充及氧化物平坦化等步骤，制作晶体管有源区之间的隔离区的一种工艺。它取代了LOCOS......
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简述LOCOS隔离原理。
问答题简述LOCOS隔离原理。
简述倒掺杂阱技术的步骤。
问答题简述倒掺杂阱技术的步骤。
简述先进的0.18μmCMOS集成电路工艺技术工艺步骤。
问答题简述先进的0.18μmCMOS集成电路工艺技术工艺步骤。
