问答题
磁控溅射具有沉积温度低、沉积速率高两大特点。在溅射镀膜过程中，可以调节并需要优化的实验参数有电源功率、工作气体流里和压强......
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溅射原子的能童分布一般呈何分布，溅射原子的能量和速度具有哪些特点？
问答题溅射原子的能童分布一般呈何分布，溅射原子的能量和速度具有哪些特点？
简述溅射率的影响因素。
问答题简述溅射率的影响因素。
解释PECVD沉积过程的两种模型。
问答题解释PECVD沉积过程的两种模型。
