单项选择题
A.化学气相沉积B.离子束辅助沉积C.多弧离子镀D.分子束外延
两极间接上射频电源后,两极间等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在基板表面成膜的技术是()A.直...
单项选择题两极间接上射频电源后,两极间等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在基板表面成膜的技术是()
A.直接三级溅射B.磁控溅射C.射频溅射D.直流二级溅射
通过物理法和化学法可以得到所需的纳米薄膜材料,属于物理法制备纳米薄膜材料的是()A.激光诱导化学气相沉积B.溶...
单项选择题通过物理法和化学法可以得到所需的纳米薄膜材料,属于物理法制备纳米薄膜材料的是()
A.激光诱导化学气相沉积B.溶胶-凝胶法C.金属有机物化学气相沉积D.磁控溅射法
直流溅射是利用直流辉光放电产生离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术,靶材固定在()极。A.阴B.空C.阳
单项选择题直流溅射是利用直流辉光放电产生离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术,靶材固定在()极。
A.阴B.空C.阳