单项选择题
A.干氧氧化B.水汽氧化C.高压氧化D.掺氯氧化
在半导体生产中，常常采用的氧化方式是“干-湿-干”氧化，湿氧氧化的作用是（）A.较短的时间得到较厚的薄膜B.得...
单项选择题在半导体生产中，常常采用的氧化方式是“干-湿-干”氧化，湿氧氧化的作用是（）
A.较短的时间得到较厚的薄膜B.得到较好的表面C.较好的二氧化硅特性D.提高氧化膜的质量
氧化层上表面的二氧化硅是（）生长的。A.最后B.最先C.随机D.中间
单项选择题氧化层上表面的二氧化硅是（）生长的。
A.最后B.最先C.随机D.中间
氧化速率跟氧化温度之间的关系是什么（）A.温度越高，氧化速率越慢B.温度越高，氧化速率越快C.没有关系D.温度...
单项选择题氧化速率跟氧化温度之间的关系是什么（）
A.温度越高，氧化速率越慢B.温度越高，氧化速率越快C.没有关系D.温度越高越好
