在半导体生产中，常常采用的氧化方式是“干-湿-干”氧化，湿氧氧化的作用是（）

氧化层上表面的二氧化硅是（）生长的。A.最后B.最先C.随机D.中间

单项选择题氧化层上表面的二氧化硅是（）生长的。

氧化速率跟氧化温度之间的关系是什么（）A.温度越高，氧化速率越慢B.温度越高，氧化速率越快C.没有关系D.温度...

单项选择题氧化速率跟氧化温度之间的关系是什么（）

（）可以很大程度降低氧化层钠离子的沾污。A.高压氧化B.水汽氧化C.湿氧氧化D.含氯氧化

单项选择题（）可以很大程度降低氧化层钠离子的沾污。