盛放HF溶液须用何种容器（）

集成电路工艺制造过程中，化学试剂最纯的为（）A.化学纯B.MOS纯C.分析纯D.电子纯

单项选择题集成电路工艺制造过程中，化学试剂最纯的为（）

H级芯片镜检的显微镜倍数要求为（）倍。A.25~50B.50~100C.75~150D.50~75

单项选择题H级芯片镜检的显微镜倍数要求为（）倍。

薄膜微晶玻璃片可使用（）进行划片工艺。A.激光B.金刚刀C.砂轮D.钢刀

单项选择题薄膜微晶玻璃片可使用（）进行划片工艺。