对于0.25um及以下的隔离技术采用以下（）方式。

WCVD工艺第一步是（）。A.浸润B.成核C.BULKD.直接反应

单项选择题WCVD工艺第一步是（）。

Liner barrier阻挡金属间扩散作用的金属是（）。A.金属AlB.金属钛C.金属氮化钛D.金属钨

单项选择题Liner barrier阻挡金属间扩散作用的金属是（）。

掺氯氧化使用的HCL是（）。A.液态源B.固态源C.气态源

单项选择题掺氯氧化使用的HCL是（）。