问答题
去除氮化硅使用热磷酸进行湿法化学剥离掉的。这种酸槽一般始终维持在160℃左右并对露出的氧化硅具有所希望的高选择比。用热磷......
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哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。
问答题哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。
描述电子回旋共振（ECR）。
问答题描述电子回旋共振（ECR）。
解释发生刻蚀反应的化学机理和物理机理。
问答题解释发生刻蚀反应的化学机理和物理机理。
