单项选择题
A.1 B.2 C.3 D.4
PR成分中，除Resin/sensitizer/additives外，还有什么（）A.酒精B.NEGAC.PO...
单项选择题PR成分中，除Resin/sensitizer/additives外，还有什么（）
A.酒精 B.NEGA C.POSI D.Solvent
PHOTO工程曝光机设备构造中，不包含的是（）A.照明光学系B.投影光学系C.MASK STAGED.除震系统
单项选择题PHOTO工程曝光机设备构造中，不包含的是（）
A.照明光学系 B.投影光学系 C.MASK STAGE D.除震系统
在Gate Step中，得到Gate Pattern的顺序是（）A.Cleaning->Gate Depo->...
单项选择题在Gate Step中，得到Gate Pattern的顺序是（）
A.Cleaning->Gate Depo->Photo->WET Etch B.Cleaning->Gate Depo->Photo->DRY Etch C.Gate Depo->Cleaning->Photo->WET Etch D.Cleaning->Photo->Gate Depo->WET Etch
