判断题
正确
LPCVD反应是受气体质量传输速度限制的。
判断题LPCVD反应是受气体质量传输速度限制的。
高阻衬底材料上生长低阻外延层的工艺称为正向外延。
判断题高阻衬底材料上生长低阻外延层的工艺称为正向外延。
CVD是利用某种物理过程,例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移,即原子或分子由源转移到衬底(硅)表面上,并淀积成...
判断题CVD是利用某种物理过程,例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移,即原子或分子由源转移到衬底(硅)表面上,并淀积成薄膜。