判断题
错误
CVD是利用某种物理过程,例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移,即原子或分子由源转移到衬底(硅)表面上,并淀积成...
判断题CVD是利用某种物理过程,例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移,即原子或分子由源转移到衬底(硅)表面上,并淀积成薄膜。
快速热处理是一种小型的快速加热系统,带有辐射热和冷却源,通常一次处理一片硅片。
判断题快速热处理是一种小型的快速加热系统,带有辐射热和冷却源,通常一次处理一片硅片。
用于亚0.25μm工艺的选择性氧化的主要技术是浅槽隔离。
判断题用于亚0.25μm工艺的选择性氧化的主要技术是浅槽隔离。