离子注入在衬底中产生的损伤主要有（）等三种。

常规平面工艺扩散工序中的恒定表面源扩散过程中，杂质在体内满足（）函数分布。常规平面工艺扩散工序中的有限表面源扩...

填空题常规平面工艺扩散工序中的恒定表面源扩散过程中，杂质在体内满足（）函数分布。常规平面工艺扩散工序中的有限表面源扩散过程中，杂质在体内满足（）函数分布。

制备SiO2的方法有（）、（）、（）、（）、（）等。

填空题制备SiO₂的方法有（）、（）、（）、（）、（）等。

在SiO2内和Si-SiO2界面存在有（）、（）、（）、（）等电荷。

填空题在SiO₂内和Si-SiO₂界面存在有（）、（）、（）、（）等电荷。