多项选择题
A.均匀性差B.易发生气相反应C.台阶覆盖D.高温工艺
下列关于LPCVD的描述正确的有（）。A.扩散控制B.严格控制温度C.反应控制D.低温淀积工艺
多项选择题下列关于LPCVD的描述正确的有（）。
A.扩散控制B.严格控制温度C.反应控制D.低温淀积工艺
影响淀积速率的因素有（）。A.降低δsB.增加UmC.减小基座长度LD.增加温度
多项选择题影响淀积速率的因素有（）。
A.降低δsB.增加UmC.减小基座长度LD.增加温度
Grove模型建模时，关注的主要运动形式有（）。A.反应运动B.扩散运动C.脱吸运动D.漂移运动
多项选择题Grove模型建模时，关注的主要运动形式有（）。
A.反应运动B.扩散运动C.脱吸运动D.漂移运动
