掩模版一般是在石英玻璃涂抹上一定形状的铬等材料，形成明暗相间的图形。

制作MOS管时，一般先进行源的注入，再进行漏的注入。

判断题制作MOS管时，一般先进行源的注入，再进行漏的注入。

CMOS制作时，源、漏、栅等结构都做在场氧化区。

判断题CMOS制作时，源、漏、栅等结构都做在场氧化区。

LOCOS工艺主要用于制作MOS管的栅氧结构。

判断题LOCOS工艺主要用于制作MOS管的栅氧结构。