多项选择题
A.负胶受显影液的影响比较小 B.正胶受显影液的影响比较小 C.正胶的曝光区将会膨胀变形 D.使用负胶可以得到更高的分辨率 E.负胶的曝光区将会膨胀变形
下列哪些因素不会影响到显影效果的是（）。A.显影液的温度B.显影液的浓度C.显影液的溶解度D.显影液的化学成分
单项选择题下列哪些因素不会影响到显影效果的是（）。
A.显影液的温度 B.显影液的浓度 C.显影液的溶解度 D.显影液的化学成分
下列有关ARC工艺的说法正确的是（）。A.ARC可以是硅的氮化物B.可用干法刻蚀除去C.ARC膜可以通过PVD...
多项选择题下列有关ARC工艺的说法正确的是（）。
A.ARC可以是硅的氮化物 B.可用干法刻蚀除去 C.ARC膜可以通过PVD或者CVD的方法形成 D.ARC在刻蚀中也可做为掩蔽层 E.ARC膜也可以通过CVD的方法形成
下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。A.烘烤的目的是除去光刻胶中的水分B.烘烤可以减轻曝光中的驻波效应C.烘...
单项选择题下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。
A.烘烤的目的是除去光刻胶中的水分 B.烘烤可以减轻曝光中的驻波效应 C.烘烤的温度一般在300℃左右 D.烘烤的时间越长越好
