单项选择题
A.烘烤的目的是除去光刻胶中的水分 B.烘烤可以减轻曝光中的驻波效应 C.烘烤的温度一般在300℃左右 D.烘烤的时间越长越好
下列有关曝光系统的说法正确的是（）。A.投影式同接触式相比，掩模版的利用率比较高B.接触式的分辨率优于接近式C...
多项选择题下列有关曝光系统的说法正确的是（）。
A.投影式同接触式相比，掩模版的利用率比较高 B.接触式的分辨率优于接近式 C.接近式的分辨率受到衍射的影响 D.投影式曝光系统中不会产生衍射现象 E.投影式曝光是目前采用的主要曝光系统
按曝光的光源分类，曝光可以分为（）。A.光学曝光B.离子束曝光C.接近式曝光D.电子束曝光E.投影式曝光
多项选择题按曝光的光源分类，曝光可以分为（）。
A.光学曝光 B.离子束曝光 C.接近式曝光 D.电子束曝光 E.投影式曝光
在VLSI工艺中，常用的前烘方法是（）。A.热空气对流法B.真空热平板传导法C.红外线辐射法D.射频感应加热法
单项选择题在VLSI工艺中，常用的前烘方法是（）。
A.热空气对流法 B.真空热平板传导法 C.红外线辐射法 D.射频感应加热法
