问答题
原因:(1)由于水汽的进入,是网络中大量的桥键氧变为非桥键氧的羟基,使氧化层结构变疏松,密度降低,质量不如干......
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试说明热氧化法的两种基本方法及每种方法的生长机理(或过程),并比较两种方法的主要异同点。
问答题试说明热氧化法的两种基本方法及每种方法的生长机理(或过程),并比较两种方法的主要异同点。
什么是氧化硅中网络形成者和网络改变者?并举二例说明它们对氧化层结构和性质的影响。
问答题什么是氧化硅中网络形成者和网络改变者?并举二例说明它们对氧化层结构和性质的影响。
指出硅工艺中厚度最小的和最大的氧化层的主要应用,并说明它们的作用是否相同,以及为什么。
问答题指出硅工艺中厚度最小的和最大的氧化层的主要应用,并说明它们的作用是否相同,以及为什么。