单项选择题
A.等离子体 B.不等离子体 C.正离子体 D.液电流
离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（）。A.砷化氢B.二硼化氢C.三氟化硼D.硅烷E.氧气
多项选择题离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（）。
A.砷化氢 B.二硼化氢 C.三氟化硼 D.硅烷 E.氧气
半导体芯片生产中，离子注入主要是用来（）。A.氧化B.改变导电类型C.涂层D.改变材料性质E.镀膜
多项选择题半导体芯片生产中，离子注入主要是用来（）。
A.氧化 B.改变导电类型 C.涂层 D.改变材料性质 E.镀膜
硅烷的分子式是（）。A.SiF4B.SiH4C.CH4D.SiC
单项选择题硅烷的分子式是（）。
A.SiF4 B.SiH4 C.CH4 D.SiC
