单项选择题
A.SiF4 B.SiH4 C.CH4 D.SiC
去正胶常用的溶剂有（）A.丙酮B.氢氧化钠溶液C.丁酮D.甲乙酮E.热的氯化碳氢化合物
多项选择题去正胶常用的溶剂有（）
A.丙酮 B.氢氧化钠溶液 C.丁酮 D.甲乙酮 E.热的氯化碳氢化合物
光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。A.红外线辐射B.X射线照射C.加热D.紫外光辐射E.电子束扫描
多项选择题光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。
A.红外线辐射 B.X射线照射 C.加热 D.紫外光辐射 E.电子束扫描
晶片经过显影后进行坚膜，坚膜的主要作用有（）。A.除去光刻胶中剩余的溶剂B.增强光刻胶对晶片表面的附着力C.提...
多项选择题晶片经过显影后进行坚膜，坚膜的主要作用有（）。
A.除去光刻胶中剩余的溶剂 B.增强光刻胶对晶片表面的附着力 C.提高光刻胶的抗刻蚀能力 D.有利于以后的去胶工序 E.减少光刻胶的缺陷
