判断题
错误(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)
PVD沉积温度一般低于600℃，但沉积速度快。
判断题PVD沉积温度一般低于600℃，但沉积速度快。
CVD沉积温度高，而且沉积后要进行淬、回火处理，使得工件的变形增大。
判断题CVD沉积温度高，而且沉积后要进行淬、回火处理，使得工件的变形增大。
利用CVD法沉积TiN的最佳温度范围是900～1200℃。
判断题利用CVD法沉积TiN的最佳温度范围是900～1200℃。
