简答题 简述制造半导体器件的四个阶段

列举出几种pn结的形成方法并说出平面工艺的特点

问答题列举出几种pn结的形成方法并说出平面工艺的特点

描述分立器件和集成电路的区别

问答题描述分立器件和集成电路的区别

解释说明自对准栅工艺流程，为什么当图形化尺寸小到0.18um时，使用钴硅化物取代钛硅化物？为什么当图形化尺寸小...

问答题解释说明自对准栅工艺流程，为什么当图形化尺寸小到0.18um时，使用钴硅化物取代钛硅化物？为什么当图形化尺寸小到65nm时，使用镍硅化物取代钴硅化物？