多项选择题
A.加强工艺操作 B.加强人体和环境卫生 C.使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备 D.采用HCl氧化工艺 E.硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹
二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。A.玻璃器皿B.高温器材C.人体沾污D.化学试剂E.去离子水
多项选择题二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。
A.玻璃器皿 B.高温器材 C.人体沾污 D.化学试剂 E.去离子水
钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。A.替位式B.间隙式C.施主D.可能是替位式也可能是间隙式
单项选择题钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。
A.替位式 B.间隙式 C.施主 D.可能是替位式也可能是间隙式
硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是（）。A.钠B.钾C.氢D.硼
单项选择题硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是（）。
A.钠 B.钾 C.氢 D.硼
