在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。

为了防止抽气设备对离子注入系统的油污染，可在靶室前增加一个（）或采用无油泵。A.液氮冷阱B.净化阱C.抽气阱D...

单项选择题为了防止抽气设备对离子注入系统的油污染，可在靶室前增加一个（）或采用无油泵。

离子源的基本结构是由产生高密度等离子体的（）和引出部分组成。A.电极B.分析器C.加速器D.腔体

单项选择题离子源的基本结构是由产生高密度等离子体的（）和引出部分组成。

在磁分析器中常用（）分析磁铁。A.柱形B.扇形C.方形D.圆形

单项选择题在磁分析器中常用（）分析磁铁。