填空题
钛淀积阻挡层;氮化钛淀积;钨淀积
制作通孔的主要工艺步骤是:1、();2、();3、()。
填空题制作通孔的主要工艺步骤是:1、();2、();3、()。
制造电子器件的基本半导体材料是圆形单晶薄片,称为硅片或()。在硅片制造厂,由硅片生产的半导体产品,又被称为()...
填空题制造电子器件的基本半导体材料是圆形单晶薄片,称为硅片或()。在硅片制造厂,由硅片生产的半导体产品,又被称为()或()。
集成电路的制造分为五个阶段,分别为()、()、硅片测试和拣选、()、终测。
填空题集成电路的制造分为五个阶段,分别为()、()、硅片测试和拣选、()、终测。